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MOS capacitor電容器...它的原理..特性是什麼??
能附圖說明更好
請幫我解答...謝謝~

2006-12-23 13:00:54 · 1 個解答 · 發問者 Anonymous in 科學 其他:科學

1 個解答

金氧半導體是一種由金屬、氧化物和半導體三種材料組合而成的三層結構。底下一層半導體材料,一般為矽(Si)結晶片,稱為基片,可為n型或P型。中間一層氧化物,由底層之矽結晶片氧化而成(SiO2),是一種絕緣材料。最上一層金屬薄膜,以真空蒸鍍法使鋁金屬覆蓋在氧化層上而成。合稱金屬氧化物半導體(Metal-Oxide-Semi-conductor),簡稱金氧半(MOS)。

金氧半結構是製造積體電路(IC)的基礎。做成的基體電路,主要單位是金氧半場效電晶體(MOSFET),也簡稱「金氧半」。金氧半場效電晶體有三只端點,分別為源極、汲極和閘極。在覆蓋金屬薄膜之前,先用蝕刻法以化學藥品於適當位置和範圍將氧化層去除,露出部分半導體基片。再將裸露部分以雜質擴散法轉變成和原來形式相反之半導體,是為源極或汲極。然後覆上金屬薄膜,再以化學藥品將金屬薄膜蝕刻成適當的形狀。覆於源極和汲極部分之金屬予以保留,做接線之用。源極到汲極之間,氧化層之上,留有一段金屬薄膜,不和源極或汲極相連,是為閘極。源極、汲極及中間之閘極即構成一電晶體。閘極之下,源極和汲極之間,屬半導體之部分,稱為通道。原基片若為p型,則此通道稱為n通道,所成之電晶體稱做PMOS;原基片若為n形,則此通道稱為p通道,所成之電晶體稱做NMOS。

金氧半電晶體,若只用源極與閘極或汲極與閘極,則因中間隔有氧化物絕緣質,即成一電容,是為金氧半電容(MOSCapacitor)。

金氧半結構不僅可以做成電子電路,也可以做成記憶體。金氧半積體電路所積電路元件為數極夥,指甲大小不到之金氧半積體電路,所積電晶體數目,動輒以百萬計。且因製做簡單、成本低廉,而可靠度極高,耗電量又小,已引發另一次之工業革命。

2006-12-23 19:44:27 · answer #1 · answered by ? 7 · 0 0

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